產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
iXH 干式工業(yè)級(jí)真空泵系統(tǒng)系列干泵產(chǎn)品是 Edwards 的市場(chǎng) iH 產(chǎn)品的，為嚴(yán)苛制程能力 樹(shù)立了新標(biāo)準(zhǔn)，它在上的許多 300mm 半導(dǎo)體和平板 工廠(chǎng)內(nèi)通過(guò)提高制程性實(shí)現(xiàn)低成本。
iXH 干式工業(yè)級(jí)真空泵系統(tǒng)可滿(mǎn)足 FPD、太陽(yáng)能、 半導(dǎo)體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴(yán)苛制程中具有大性。
詳情介紹：
iXH 干式工業(yè)級(jí)真空泵系統(tǒng)
iXH 系列干泵產(chǎn)品是 Edwards 的市場(chǎng) iH 產(chǎn)品的，為嚴(yán)苛制程能力 樹(shù)立了新標(biāo)準(zhǔn)，它在上的許多 300mm 半導(dǎo)體和平板 工廠(chǎng)內(nèi)通過(guò)提高制程性實(shí)現(xiàn)低成本。
可滿(mǎn)足 FPD、太陽(yáng)能、 半導(dǎo)體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴(yán)苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模塊化設(shè)計(jì)，符合 當(dāng)今的制程要求，并且對(duì)于前沿工廠(chǎng)中不斷涌現(xiàn)的應(yīng)用挑戰(zhàn) 有著路線(xiàn)明確的應(yīng)對(duì)計(jì)劃。
應(yīng)用
半導(dǎo)體的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
TCO
刻蝕
傳輸腔
主要特性和優(yōu)勢(shì)
針對(duì)的 EPI 和太陽(yáng)能制程大幅提高了氫氣抽取速度。
大容量干泵和 增壓泵提供擴(kuò)展的制程窗口以提高產(chǎn)量。
占地面積更小，高度更低，便于在任何工廠(chǎng)中安裝。
iXH 系列干泵產(chǎn)品是 Edwards 的市場(chǎng) iH 產(chǎn)品的，為嚴(yán)苛制程能力 樹(shù)立了新標(biāo)準(zhǔn)，它在上的許多 300mm 半導(dǎo)體和平板 工廠(chǎng)內(nèi)通過(guò)提高制程性實(shí)現(xiàn)低成本。
可滿(mǎn)足 FPD、太陽(yáng)能、 半導(dǎo)體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴(yán)苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模塊化設(shè)計(jì)，符合 當(dāng)今的制程要求，并且對(duì)于前沿工廠(chǎng)中不斷涌現(xiàn)的應(yīng)用挑戰(zhàn) 有著路線(xiàn)明確的應(yīng)對(duì)計(jì)劃。
應(yīng)用
半導(dǎo)體的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
TCO
刻蝕
傳輸腔
主要特性和優(yōu)勢(shì)
針對(duì)的 EPI 和太陽(yáng)能制程大幅提高了氫氣抽取速度。
大容量干泵和 增壓泵提供擴(kuò)展的制程窗口以提高產(chǎn)量。
占地面積更小，高度更低，便于在任何工廠(chǎng)中安裝。
符合主要的標(biāo)準(zhǔn)，包括 UL、CE 和 S2?？梢允冀K如一地使用或省略不用。
